SKIN1004 MADAGASCAR CENTELLA HYALU-CICA HYDRATING MASK 23ml

Produkta informācija, lietošanas mērķis
SKIN1004 Madagascar Centella Hyalu‑Cica Hydrating Mask ir intensīvi mitrinoša auduma sejas maska, kas palīdz dziļi mitrināt, nomierināt un atjaunot ādu. Produkts satur Centella Asiatica ekstraktu, ceramīdus un 8 veidu hialuronskābi, kas uzlabo ādas elastību, stiprina barjeru un atstāj ādu mīkstu, svaigu un komfortablu. Maska piemērota ikdienas lietošanai, īpaši sausai, jutīgai vai dehidratētai ādai.

Instrukcija pareizai lietošanai
Noņemiet masku no iepakojuma un uzmanīgi atlokiet. Uzklājiet uz attīrītas sejas, pielāgojot maskas formu sejai un kaklam. Atstājiet uz 10–20 minūtēm, pēc tam noņemiet masku un maigi iemasējiet atlikušo serumu ādā, lai tas pilnībā iesūktos. Lietojiet pēc nepieciešamības vai kā daļu no ikdienas ādas kopšanas rutīnas.

Sastāvdaļu saraksts
Water, Butylene Glycol, Glycerin, Niacinamide, 1,2‑Hexanediol, Glyceryl Glucoside, Xylitylglucoside, Anhydroxylitol, Allantoin, Carbomer, Arginine, Xylitol, Centella Asiatica Extract (1 000 ppm), Polyglyceryl‑10 Laurate, Ethylhexylglycerin, Xanthan Gum, Adenosine, Glucose, Disodium EDTA, Hydrogenated Lecithin, Musa Sapientum (Banana) Flower Extract, Rosa Damascena Flower Water, Pyrus Communis (Pear) Fruit Extract, Squalane, Cucumis Melo (Melon) Fruit Extract, Hedera Helix (Ivy) Leaf/Stem Extract, Sodium Hyaluronate (3.5 ppm), Ceramide NP, Cetyl Ethylhexanoate, Cholesterol, Macadamia Ternifolia Seed Oil, Brassica Campestris (Rapeseed) Sterols, Oleic Acid, Stearic Acid, Tocopherol, Hyaluronic Acid (0.1 ppm), Hydrolyzed Hyaluronic Acid (0.1 ppm), Hydrolyzed Sodium Hyaluronate (0.1 ppm), Hydroxypropyltrimonium Hyaluronate (0.1 ppm), Potassium Hyaluronate (0.1 ppm), Sodium Hyaluronate Crosspolymer (0.1 ppm), Pentylene Glycol, Sodium Acetylated Hyaluronate (0.07 ppm)

Brīdinājumi un piesardzības noteikumi
Tikai ārīgai lietošanai. Nelietot uz bojātas vai iekaisušas ādas. Ja pēc maskas lietošanas parādās apsārtums, nieze vai diskomforts, lietošanu pārtraukt. Pievērst uzmanību ādas reakcijai, īpaši lietojot kopā ar citiem aktīviem vai exfoliējošiem līdzekļiem, lai saglabātu ādas komfortu.

Glabāšanas apstākļi
Glabāt sausā, vēsā vietā, prom no tiešiem saules stariem un karstuma. Pēc lietošanas cieši aizvērt iepakojumu, lai maska saglabātu savu efektivitāti un tekstūru. Novietot bērniem nepieejamā vietā un vietā, kur tā netiek pakļauta mitrumam vai krasām temperatūras svārstībām.

Neto daudzums
23g

Atbildīgā persona
SIA "Heidemann Aesthetics Trade Co."

Izcelsmes valsts
Dienvidkoreja